Tantalum fogli per la ricerca scientifica

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. supplies high-quality rare metals, mainly including niobium hafnium alloy 103, tungsten, tantalum, niobium, hafnium, titanium, zirconium, nickel, vanadium and alloys of conventional processed profiles such as plates, strips, coils, rods, wires, pipes, as Oltre a prodotti elaborati profondi come navi, crogioli, bersagli sputtering, obiettivi di rivestimento, parti lavorate, schermi isolanti del forno ad alta temperatura, elementi di riscaldamento, corpi fornace (forni a riscaldamento, forni a ricottura), attrezzature resistenti alla corrosione, ecc.

Come produttore, fornitore ed esportatore di Tantalum, forniamo prodotti specializzati in ingegneria marina, resistenti ad alta purezza, resistenti ad alta temperatura, resistenti alla corrosione, aerospaziale, di difesa, militari e marittimi con qualità senza preoccupazioni e prezzi più favorevoli! Il servizio clienti è sempre online, quindi non hai preoccupazioni.
 

Vantaggi e caratteristiche

 

 

Stabilità chimica

Il foglio di tantalum ha proprietà chimiche stabili a temperatura ambiente, in particolare mostrando un'eccellente resistenza alla corrosione in ambienti acidi.

Eccellenti proprietà meccaniche

Il foglio di tantalum ha una buona duttilità e alta resistenza e può resistere a determinate sollecitazioni meccaniche.

Prestazioni elettriche stabili

Il foglio di tantalum ha prestazioni elettriche stabili ed è adatto alla ricerca e alla produzione di componenti elettronici ad alta precisione.

Il foglio di tantalum di grado di ricerca (purezza maggiore o uguale al 99,95%) ha un punto di fusione ultra-alto (2996 gradi), una sezione trasversale di assorbimento di neutroni termici a basso contenuto di terma (4,8b) e superplasticità (allungamento fino al 300%). La sua costante dielettrica del film di ossido di superficie (ε =27) è 2,3 volte quella del grado industriale. Il foglio di tantalum ultra-sottile da 0,025 mm prodotto da Johnson Matthey negli Stati Uniti ha una dimensione del grano controllata al di sotto di 5 μ m e una resistenza a snervamento (180 MPA) ridotta del 40% rispetto ai materiali di lamina standard, rendendolo più adatto per il trattamento micro nano.

In the EAST tokamak device, 0.1mm thick tantalum foil is used as the first wall material of the polarizer, which has a plasma shock resistance of 10MW/m ² and a sputtering rate 70% lower than tungsten. Experiments conducted by the Max Planck Institute for Plasma Research in Germany have shown that tantalum foil maintains its structural integrity after 2000 thermal cycles (Δ T=1500 ℃), with a surface erosion depth of only 3.2 μ m, significantly better than graphite materials (erosion depth>50 μ m).

Il (110) foglio di tantalum della faccia di cristallo (RA<0.2nm) developed by JEOL Corporation in Japan has a lattice constant (0.330nm) that matches most transition metal thin films by 98% when used as an STM/AFM observation substrate. In 2024, a team from Tsinghua University successfully observed the migration process of sulfur vacancies in single-layer molybdenum disulfide using this tantalum foil, and the research results were published in Nature Materials.

The 20 μ m tantalum foil strain gauge developed by the Chinese Academy of Sciences has a temperature coefficient of resistance (TCR) fluctuation of less than 0.5% at 2000 ℃, and is used for monitoring the combustion chamber pressure of the Long March 9 engine. The data sampling frequency has been increased to 10kHz. Comparative experiments show that its lifespan (>500 ore) in un ambiente di fiamma dell'ossigeno idrogeno è 8 volte quello delle termocoppie di rodio platino.

Il NIST negli Stati Uniti utilizza un foglio di tantalum puro al 99,999% per preparare bit quantici superconduttori, con una perdita dielettrica di strato di ossido di superficie (Ta ₂ o ₅) perdita di 10 ⁻⁷, consentendo il tempo di coerenza quantico per superare i 300 μ s. La cavità superconduttiva 3D prodotta da IBM usando un foglio di tantalum anodizzato ha un valore di qualità Q di qualità di 5 × 10 ⁸, stabilire un record per le prestazioni del risonatore a microonde.

Il monocromatore del foglio di tantalio (spessore 50 μ m) dalla sorgente di luce di Shanghai ha un'efficienza di riflessione dell'85% nella banda a raggi X da 15 Kev e una capacità del cuscinetto di carico termico 20 volte superiore a quella dei cristalli di silicio. I dati di test dell'ESRF europeo mostrano che la deriva spot causata dalla deformazione termica è inferiore a 0,1 μ RAD, che soddisfa i requisiti di risoluzione del subnometro.

Il foglio di tantalum è diventato un materiale insostituibile in campi all'avanguardia come fusione nucleare, calcolo quantistico e scienze superficiali a causa della sua resistenza alla temperatura ultra-alta, piattalità superficiale a livello atomico e microstruttura controllabile. Dalla resistenza agli shock al plasma del dispositivo East all'osservazione a livello atomico dei materiali a strato singolo, i suoi vantaggi delle prestazioni sono stati verificati dai migliori laboratori in tutto il mondo.

Con lo scoppio di richieste emergenti come i materiali target di semiconduttore e i nuovi dispositivi energetici, l'industria della lamina di Tantalum si sta sfruttando verso la funzionalizzazione in nanoscala e i processi di preparazione verde. Le imprese cinesi hanno occupato le alture tecnologiche nel layout dell'intera catena del settore. In futuro, il foglio di Tantalum continuerà a rilasciare il valore della ricerca scientifica in campi come materiali ambientali estremi e dispositivi di superconduttori di prossima generazione.

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